6月19日，電科裝備山西中電科公司自主研制的臥式碳化硅化學(xué)氣相沉積裝備順利發(fā)往客戶現(xiàn)場，標志著電科裝備的涂層設(shè)備“單項冠軍”培育計劃實現(xiàn)新突破，邁出了公司拓展新市場領(lǐng)域的重要一步。

本次發(fā)貨的設(shè)備是山西中電科公司采用全新設(shè)計理念開發(fā)的第三代臥式碳化硅化學(xué)氣相沉積裝備，其結(jié)構(gòu)設(shè)計與工藝技術(shù)均由公司自主研發(fā)。設(shè)備采用高精度溫控系統(tǒng)，可將石墨基體溫差精準調(diào)控在1℃以內(nèi)，確保工藝過程穩(wěn)定；利用CFD數(shù)值模擬技術(shù)對裝備結(jié)構(gòu)和工藝參數(shù)進行優(yōu)化調(diào)整，有效提升了生產(chǎn)質(zhì)量與效率。

經(jīng)過多次工藝優(yōu)化調(diào)試，設(shè)備可順利實現(xiàn)涂層制品純度≥99.9999%，碳化硅涂層制品厚度100μm±10%，主要晶型、晶向、硬度等關(guān)鍵技術(shù)指標達到國內(nèi)領(lǐng)先水平。

下一步，山西中電科公司將繼續(xù)落實“單項冠軍”培育計劃，持續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新，穩(wěn)步提升產(chǎn)品性能和服務(wù)質(zhì)量，進一步擴大電科裝備的科研優(yōu)勢與市場競爭力，為我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供更強大的技術(shù)支持和裝備保障。